UV灯反射器镀膜工艺对光效的影响研究
UV灯反射器的镀膜工艺是提升紫外光利用效率的技术之一。镀膜材料、膜层结构及工艺参数直接影响反射器的反射率、热稳定性和光谱选择性，进而决定光效输出与系统能效。
首先，镀膜材料的选择是光效优化的基础。高纯度铝（Al）因其在紫外波段的反射率可达85%-92%，成为常用材料，但其表面易氧化导致性能衰减。通过镀覆二氧化硅（SiO₂）或氟化镁（MgF₂）保护层，可提升性并利用光学干涉效应将反射率提高至95%以上。此外，银（Ag）基复合膜在特定波段反射率可达98%，但成本与工艺复杂度较高。
其次，膜层设计与厚度控制直接影响光谱响应。采用多层介质膜（如TiO₂/SiO₂交替结构）可实现窄带高反射，通过调节每层厚度（通常控制在10-200nm）可匹配UV光源主波长（如254nm或365nm）。实验表明，8层Al₂O₃/MgF₂膜系可使365nm波段反射率提升6.2%，同时降低10%的杂散光损耗。
工艺参数对膜层质量具有显著影响。磁控溅射镀膜相比传统蒸镀技术，可使膜层致密度提高30%，表面粗糙度降至5nm以下，减少光散射损失。基板温度控制在200-300℃时，膜层应力降低40%，避免微裂纹导致的反射率下降。后处理工艺如离子束辅助沉积可增强膜层结合力，经500小时老化测试后反射率衰减仅2.3%。
实际应用中需平衡性能与成本，工业固化系统多采用Al+SiO₂双层膜，反射率>90%；而精密光刻设备则选用Ag+介质保护层的复合膜系。未来研究方向可聚焦于宽光谱自适应膜层和耐高温（>400℃）纳米结构镀膜技术的开发。
